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設(shè)備更新|掃描電鏡 SEM &透射電鏡 TEM 離子束制樣設(shè)備

發(fā)布時(shí)間: 2024-06-05  點(diǎn)擊次數(shù): 2044次

設(shè)備更新|掃描電鏡 SEM & 透射電鏡 TEM 離子束制樣設(shè)備

設(shè)備更新|掃描電鏡 SEM & 透射電鏡 TEM 離子束制樣設(shè)備

2024 年 3 月 1 日,《推動(dòng)大規(guī)模設(shè)備更新和消費(fèi)品以舊換新行動(dòng)方案》經(jīng)審議通過(guò)。會(huì)議指出,推動(dòng)新一輪大規(guī)模設(shè)備更新和消費(fèi)品以舊換新,是著眼于我國(guó)高質(zhì)量發(fā)展大局作出的重大決策。同時(shí)指出,新一輪換新工作仍堅(jiān)持標(biāo)準(zhǔn),更好發(fā)揮能耗、排放、技術(shù)等標(biāo)準(zhǔn)的牽引作用,智能、綠色、低碳的科研儀器,將成為設(shè)備更新的主力軍。

我們積極響應(yīng)大規(guī)模設(shè)備更新政策,推出掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡的離子束制樣設(shè)備綜合解決方案,支持各位老師設(shè)備更新,歡迎隨時(shí)聯(lián)系我們快速獲取上報(bào)資料。

離子束制樣設(shè)備

離子束制樣設(shè)備專(zhuān)注于掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡的樣品制備。

離子束制樣技術(shù)在電子顯微鏡樣品制備中扮演著重要角色。對(duì)于 SEM 樣品制備,離子束可以用于清潔樣品表面、去除表面污染物、修飾表面形貌等。而對(duì)于 TEM 樣品制備,離子束則可以用于薄片的切割、修剪、薄化等,以制備適合 TEM 觀察的樣品。

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Technoorg Linda產(chǎn)品選型

離子研磨儀 SEMPrep2

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SEMPrep2 離子研磨儀用于掃描電子顯微鏡樣品無(wú)損加工,它通過(guò) Ar 離子束的能量在材料表面進(jìn)行微觀改性,從而實(shí)現(xiàn)高精度、高效率,無(wú)機(jī)械損傷的樣品表面處理,為您呈現(xiàn)最真實(shí)的樣品表面信息。與傳統(tǒng)機(jī)械制樣對(duì)比有以下優(yōu)勢(shì):

高精度加工:能夠去除樣品表面的污染物、氧化層以及其他不良表面特征,從而提高樣品表面的質(zhì)量和可觀察性。

非破壞性加工:相比于傳統(tǒng)的機(jī)械切削或研磨方法,氬離子研磨是一種非接觸性的加工方法,能夠避免因機(jī)械接觸而引入的表面損傷或變形,保持樣品的原始形貌和結(jié)構(gòu)。

微納米級(jí)加工:能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)樣品表面的微納米級(jí)加工,精確地去除樣品表面的雜質(zhì)或形貌缺陷,從而獲得更清晰、更準(zhǔn)確的 SEM 圖像。

表面清潔度高:能夠有效去除樣品表面的有機(jī)物、氧化物等污染物,保證樣品表面的干凈度和純度,有助于獲得高質(zhì)量的 SEM 圖像和準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

適用范圍廣泛:可適用于各種類(lèi)型的 SEM 樣品,包括金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、生物樣品等,具有較強(qiáng)的通用性和適用性。

使用離子研磨儀處理后的樣品 SEM 圖片:

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氧化鋁陶瓷材料

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半導(dǎo)體失效分析

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鋰電池正極極片

離子精修儀 Gentle Mill

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Gentle Mill 離子精修儀專(zhuān)為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設(shè)計(jì),非常適合要求樣品無(wú)加工痕跡、無(wú)任何損傷的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶(hù)。

通過(guò)使用 Gentle Mill 離子精修儀,其配備了能氬離子槍?zhuān)x子束能量低至 100eV,可把非晶層厚度精修到 1nm 以下,由此工作人員可以撥開(kāi)非晶層的迷霧,直接獲得樣品的真實(shí)信息。

設(shè)備更新|掃描電鏡 SEM & 透射電鏡 TEM 離子束制樣設(shè)備

經(jīng) Gentle Mill 設(shè)備精修后的 PbTiO3 / SrTiO3 界面 HRTEM 圖像

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La2/3-xLi3xTiO3 (LLTO) 樣品去除 FIB 產(chǎn)生的表面非晶層的完整流程。(a) 30 kV FIB 切割樣品的 HRTEM 照片。(b-d) 連續(xù)使用低能氬離子精修后的 HRTEM 結(jié)果。圖片中標(biāo)識(shí)了對(duì)應(yīng)的精修參數(shù)和非晶層厚度。

離子減薄儀 Unimill

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Unimill 離子減薄儀專(zhuān)為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM / XTEM 樣品而設(shè)計(jì)。 即可以使用超高能離子槍進(jìn)行快速研磨,也可以使用專(zhuān)用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理

設(shè)備更新|掃描電鏡 SEM & 透射電鏡 TEM 離子束制樣設(shè)備

使用 Unimill 制備,并使用 500V 及 300V 精修后的 Diamond 樣品

 

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